Qualiflow 數位式氣體流量控制計 AFC 202D, AFM 302D, 適用於高流量 30slm 至400slm。 AFC 50 D, AFM 55 D, 適用於高精確流量控制從10sccm 至30slm 標準品使用 elastomeric seals。 AFC 80 MD, AFM 85 MD 適合裝設於使用反應氣體的設備,流量控制10sccm 至 30slm,全金屬止洩,超鏡面拋光,不會有粉塵產生。 MC-3000, MC-4000及MC-5000 適用於大多數300mm應用需求(APCVD, LPCVD, MCVD, Etching processes, etc...): 採用新一代壓電控制閥,全金屬止洩及數位控制技術。 MC-3000 標準及多用途產品。 MC-4000 1"1/8 吋小尺寸設計。 MC-5000 提供DeviceNet 溝通操作。
AFC 202D, AFM 302D, 適用於高流量 30slm 至400slm。
AFC 50 D, AFM 55 D, 適用於高精確流量控制從10sccm 至30slm 標準品使用 elastomeric seals。
AFC 80 MD, AFM 85 MD 適合裝設於使用反應氣體的設備,流量控制10sccm 至 30slm,全金屬止洩,超鏡面拋光,不會有粉塵產生。
MC-3000 標準及多用途產品。
MC-4000 1"1/8 吋小尺寸設計。
MC-5000 提供DeviceNet 溝通操作。